株式会社日立ハイテクアナリシス

ヒタチハイテクアナリシス

  • 製造業
  • 東京都港区
  • 従業員 656人
  • 設立 2000年

株式会社日立ハイテクアナリシスは、東京都港区虎ノ門１丁目１７番１号に本店がある法人です（法人番号 2040001000893）。設立は2000年3月1日、従業員数は656人です。gBizINFO には、国の調達1件・届出・認定1件・特許190件の記録があります。

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基本情報

法人番号
2040001000893
商号
株式会社日立ハイテクアナリシス
ヒタチハイテクアナリシス
本店所在地
〒105-0001 東京都港区虎ノ門１丁目１７番１号 地図を見る（Google マップ）
状態
存続
業種
製造業
設立年月日
2000年3月1日
社歴
設立から26年（2030年に設立30周年）
従業員数
656人
事業の概要
分析、計測、観察装置の開発、製造、販売

出典：gBizINFO（経済産業省）（2026年11月12日に取得）。法人番号・商号・所在地は国税庁法人番号公表サイトの情報です。

問い合わせ窓口

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国の調達（入札・契約）1件

受注日件名金額府省など
2018年7月30日ＮＥＤＯ先導研究プログラムエネルギー・環境新技術先導研究プログラムＺＥＶ用電池製造のための革新的異物検出技術の研究開発2,466万円国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構

出典：gBizINFO（経済産業省）（2026年11月12日に取得）

届出・認定1件

認定日名称府省など
—物品の製造： 物品の販売：A 役務の提供等：Aデジタル庁

出典：gBizINFO（経済産業省）（2026年11月12日に取得）

特許・商標など190件

新しいものから30件を表示しています。

出願日名称種類番号
2021年10月21日試料片移設装置特許7425231
2021年3月15日膜電極接合体の検査方法および検査装置特許7299260
2020年10月28日プローブ顕微鏡およびプローブ顕微鏡の光軸調整方法特許7444754
2020年10月23日示差走査熱量計意匠1693814
2020年9月25日集束イオンビーム装置特許7246744
2020年3月24日熱分析装置特許7365278
2020年3月23日集束イオンビーム加工装置特許7354037
2020年3月18日粒子ビーム装置及び複合ビーム装置特許7383536
2020年3月18日荷電粒子ビーム装置特許7360978
2020年3月18日荷電粒子ビーム装置特許7413105
2020年3月18日荷電粒子ビーム装置特許7391735
2020年3月18日走査型プローブ顕微鏡及び設定方法特許7351778
2020年3月12日熱分析装置特許7407051
2020年3月4日熱分析装置の制御部、及び熱分析装置特許7407020
2020年2月28日液体クロマトグラフ装置特許7416536
2020年2月26日膜電極接合体の検査方法および検査装置特許7221895
2019年11月20日Ｘ線検査装置及びＸ線検査方法特許7321523
2019年10月18日集束イオンビーム装置、及び集束イオンビーム装置の制御方法特許7308582
2019年10月18日荷電粒子ビーム装置、複合荷電粒子ビーム装置、及び荷電粒子ビーム装置の制御方法特許7308581
2019年10月10日分析装置特許7324680
2019年10月4日オートサンプラの制御装置及びそれを含む自動測定システム特許7389607
2019年9月25日集束イオンビーム装置特許7308710
2019年9月25日アミノ酸の検出方法特許7346201
2019年9月25日荷電粒子ビーム装置特許7291049
2019年9月25日荷電粒子ビーム装置特許7291048
2019年9月24日粒子ビーム照射装置特許7291047
2019年9月24日液体金属イオン源及び集束イオンビーム装置特許7479810
2019年9月24日荷電粒子ビーム照射装置、及び制御方法特許7360871
2019年9月2日量子効率分布の取得方法、量子効率分布の表示方法、量子効率分布の取得プログラム、量子効率分布の表示プログラム、分光蛍光光度計及び表示装置特許7284457
2019年7月10日クロマトグラフ装置特許7337573

出典：gBizINFO（経済産業省）（2026年11月12日に取得）

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出典・このページについて

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